Японская компания Canon в прошлом году передала Intel первую установку для разработки чипов методом нанопечати. Этот подход обещает сократить затраты на оборудование для производства 5-нм чипов и существенно уменьшить потребление электроэнергии. Также компания DNP представила материал для создания 1,4-нм чипов с использованием этого метода.
По данным Nikkei Asian Review, DNP разработала специальный материал для матриц, который позволяет наносить рисунки на кремниевые пластины. Это делает возможным создание чипов через травление. В 2027 году DNP планирует запустить массовое производство таких материалов, что в сочетании с оборудованием Canon позволит производить 1,4-нм чипы.
Энергетические расходы на производство таких чипов могут снизиться на 90 % по сравнению с традиционными методами с использованием лазеров. Установка для нанопечати стоит около $6,4 млн, что значительно меньше стоимости оборудования ASML. Технология заинтересовала не только Intel, но и Samsung, TSMC, Micron и Kioxia, однако переход на нанопечать требует уверенности в её перспективах. Canon и Nikon когда-то доминировали на рынке литографии, но сейчас его контролирует ASML, владеющая 90% рынка.
